IBM и Toppan разработают фотомаски для изготовления 45-нанометровых чипов

Как сообщили представители IBM, компания заключила соглашение с японской компанией Toppan Printing о совместной разработке фотомасок для изготовления чипов нового поколения по 45-нанотехнологии.

В данный проект обе компании вкладывают около $200 млн. Основные работы будут проводиться на производственных объектах IBM в США.

Обе компании, объединяя свои достижения в данной области, планируют разработать 45-нанотехнологию производства фотомасок к середине 2007 г.

В дальнейшем Toppan перенесет совместно разработанную технологию на свои заводы и наладит собственную производственную систему.