САПР под 90 нм
Как выяснил CNews, Минпромторг ищет исполнителя для разработки программного комплекса базового уровня реализации маршрута подготовки данных для проектирования и изготовления фотошаблонов.
На работы министерство выделило 943 млн руб. Тендер в формате открытого конкурса был опубликован 28 апреля 2026 г. Работы должны быть выполнены до 1 ноября 2028 г.
До 2022 г. самой популярной САПР для проектирования микросхем были Cadence и Synopsys. Но после введения санкций их продукты было запрещено поставлять заказчикам из России.
Что хотят
Будущий исполнитель должен разработать базовую версию программного комплекса для автоматизированной подготовки данных для проектирования и изготовления фотошаблонов по технологических норм 90 нм и более.
Комплекс должен включать программный модуль загрузки данных, просмотра и визуального контроля топологии, модуль формирования эскиза, модуль для сборки фотошаблонов и т.д.
Разрабатываемый софт предназначен для генерации управляющих данных под полную линейку белорусских лазерных генераторов фотошаблонов: от многоканальных машин серий ЭМ?5189/5289 до высокопроизводительных DUV-систем (ЭМ?5489Б) и установок с пространственно-световой модуляцией (ЭМ?5079). Это говорит о планах построить полностью изолированных техпроцесс.
При этом разрабатываемый софт должен работать без подключения к сети.
Создание САПР в России
В сентябре 2024 г. стало известно о том, что Минпромторг разработал «дорожную карту» развития САПР до 2030 г. Затраты на научно-исследовательские и опытно-конструкторские работы в рамках данной инициативы оценивались в 54,6 млрд руб.
По данным «Коммерсанта», к 2030 г. планируется создать около 100 различных платформ САПР, а продажи такого ПО к указанной дате, как ожидается, достигнут 2,6 тыс. единиц. Совокупная выручка от реализации 12 поднаправлений САПР к 2030 г. должна составить 7,2 млрд руб., из которых 3,6 млрд придется на программы для разработки микросхем.
В «дорожной карте» также сказано, что в 2030 г. планируется начать разработку САПР для проектирования чипов по топологии 28 нм.
Поделиться
