Intel открыла первую в мире исследовательскую лабораторию для работы с подложками диаметром 300 мм

Корпорация Intel открыла первую в мире исследовательскую лабораторию для работы с подложками диаметром 300 мм.

Получившая название RP1 (RP э аббревиатура от "research and pathfinding", т.е. "исследования и изыскания"), лаборатория стоимостью $250 млн. э первое в мире предприятие такого рода, деятельность которого будет сосредоточена на исследовании и совершенствовании технологий производства полупроводников на новых подложках увеличенного до 300 мм диаметра.

Специалисты Intel будут использовать RP1 для разработки фотолитографических процессов следующего поколения, транзисторов с улучшенными рабочими характеристиками и перспективных технологий межсоединений - медных и оптических, а также экологически чистых производственных процессов (новых материалов и химикатов). Организация новой лаборатории позволит Intel продолжить работы по созданию самых миниатюрных и быстродействующих транзисторов в мире. Чем меньше транзистор, тем он быстрее, а быстродействующие транзисторы э основные элементы мощных микропроцессоров, которые используются в компьютерах и множестве других "интеллектуальных" устройств.

RP1 э базовое предприятие лаборатории Intel Components Research Lab, которая входит в состав Intel Labs. Этот коллектив занимается созданием полупроводниковых технологий, которые на два-три поколения опережают современное производство Intel.

Новая исследовательская лаборатория оснащена "чистой комнатой" площадью 5,2 тыс. кв. м и расположена по соседству с экспериментальным заводом D1C и промышленным производством Fab 20. RP1 поможет Intel ускорить процесс продвижения идей от стадии исследования до внедрения в производство. RP1 э это не экспериментальное производство, а опытно-изыскательская лаборатория. Изыскания э важнейший переходный этап между научными исследованиями и практическим внедрением. Поскольку RP1 ориентирована на работу с подложками диаметром 300 мм, специалисты Intel смогут использовать их как в исследованиях, так и на производстве. Это позволит Intel ускорить внедрение усовершенствованных технологий, которые будут применяться в устройствах будущего, изготавливаемых на крупносерийном производстве.